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    Chemicals typically used in prime face polishing of semiconductor wafers or electronic and optoelectronic crystals, such as Bromine Methanol or acid etches, are highly aggressive and require ......
  • Logitech CP3000化學拋光裝置能很好的滿足腐蝕拋光溶劑↟₪▩☁╃,同樣也適用於腐蝕性較弱的Chemlox拋光↟₪▩☁╃,如半導體晶片的背拋光•│╃╃。現在的電子器件對於晶片尺寸↟₪▩☁╃,表面平整度☁₪✘、平行度及厚度控制都有非常苛刻的控制要求↟₪▩☁╃,而CP3000化學拋光機↟₪▩☁╃,特別是跟Logitech的晶片處理系統配合使用作為Z後一個步驟時↟₪▩☁╃,能*達到這些控制標準•│╃╃。
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