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精密研磨拋光系統
Logitech PM5精密研磨拋光系統是帶有一個工作站的桌上型電腦▩✘◕✘，適用於科學研究水平的研磨和拋光▩✘◕✘，能夠完成4英寸及以下尺寸樣品的小批次處理•▩。具有加工樣品*性高◕•▩◕↟、規格水平高◕•▩◕↟、表面光潔等特點•▩。
Logitech PM5精密研磨拋光系統是帶有一個工作站的桌上型電腦▩✘◕✘，適用於科學研究水平的研磨和拋光▩✘◕✘，能夠完成4英寸及以下尺寸樣品的小批次處理•▩。
具有加工樣品*性高◕•▩◕↟、規格水平高◕•▩◕↟、表面光潔等特點•▩。
精密研磨拋光系統特點☁₪◕：
1◕•▩◕↟、完善的控制系統
在半導體◕•▩◕↟、光電◕•▩◕↟、光學以及地質等應用領域▩✘◕✘，Logitech PM5是值得信賴的選擇▩✘◕✘，典型的應用包括☁₪◕：晶片背減◕•▩◕↟、光纖及波導器件製備◕•▩◕↟、鐳射棒拋光◕•▩◕↟、MEMS等•▩。無論是對何種高質量表面平整度控制的需求▩✘◕✘，PM5均能給予使用者滿意的處理效果•▩。
研磨/拋光的所有功能▩✘◕✘，包括盤轉速◕•▩◕↟、擺臂設定◕•▩◕↟、滴料速度▩✘◕✘，均顯示在操作控制顯示屏▩✘◕✘，透過操縱桿對操作控制顯示屏的引數進行設定•▩。
2◕•▩◕↟、自動化功能增強
機器執行內建計時器▩✘◕✘，在無人看管時可以設定計時器▩✘◕✘，計時器時間設定範圍0-10小時▩✘◕✘，在處理材料完成時機器自動停止（拋光狀態下報警不停機）▩✘◕✘，控制系統向操作員發出蜂鳴提醒•▩。
為了進一步提高易用性▩✘◕✘，Logitech PM5部分配備真空管道▩✘◕✘，以聯通真空裝置▩✘◕✘，VS2真空系統單元獨立放置▩✘◕✘，在提供真空系統同時具有過濾防汙染的功能•▩。可以看到▩✘◕✘，Logitech的全套備件配置使用為使用者帶來了足夠大的加工靈活性•▩。
Logitech PM5夾具具有線上監測功能▩✘◕✘，可實時顯示樣品處理的去除量▩✘◕✘，監測精度1um；為適應各種大小尺寸的樣品處理▩✘◕✘，夾具對晶片作用壓力可以連續調節▩✘◕✘，透過增加夾具壓力塊▩✘◕✘，壓力調節範圍zui大可達0.1 - 7Kg；夾具zui大處理樣品尺寸4英寸•▩。
3◕•▩◕↟、直觀的操作控制系統
快速◕•▩◕↟、高效的研磨/拋光盤▩✘◕✘，便於拆卸▩✘◕✘，方便使用者在不同的研磨過程之間的快速轉換▩✘◕✘，以及研磨和拋光工藝的變換•▩。這種靈活性使PM5成為實驗室空間有限的情況下的首要選擇•▩。
Logitech PM5具有耐化學腐蝕的配置▩✘◕✘，適合在腐蝕性物質環境中使用▩✘◕✘，如砷化鎵拋光中常常使用的Chemlox拋光液•▩。耐腐蝕的設計保障了系統在酸鹼工作環境中執行•▩。
4◕•▩◕↟、精準的滴料系統
磨料自動填料系統透過一個可調導料槽▩✘◕✘，確保精準的控制料液流從料桶滴入研磨盤或拋光碟•▩。滴料的控制設計▩✘◕✘，具有很高的經濟性▩✘◕✘，特別適合多樣化研究使用•▩。
此外▩✘◕✘，可拆卸的料液托盤匯出廢料▩✘◕✘，使其流入廢料桶▩✘◕✘，從而保障裝置安全穩定的長時間持續執行▩✘◕✘，同時減輕裝置的清理工作•▩。
5◕•▩◕↟、完整的引數控制▩✘◕✘，確保結果*
研磨/拋光的工藝過程中▩✘◕✘，盤的表面情況會在一定程度上反饋在樣品表面▩✘◕✘，透過控制研磨盤的盤面型從而提高樣品平整度；透過保持拋光碟的表面狀態從而提高樣品表面質量•▩。
為獲得*結果▩✘◕✘，裝置往復運動的速度和擺幅可以精確的控制樣品處理效果▩✘◕✘，從而提高了結果的高重複性和高*性•▩。
技術規格☁₪◕：
