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精密研磨拋光系統

  • 型   號☁₪◕:Logitech PM5
  • 價   格☁₪◕:

Logitech PM5精密研磨拋光系統是帶有一個工作站的桌上型電腦▩✘◕✘,適用於科學研究水平的研磨和拋光▩✘◕✘,能夠完成4英寸及以下尺寸樣品的小批次處理•▩。具有加工樣品*性高◕•▩◕↟、規格水平高◕•▩◕↟、表面光潔等特點•▩。

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Logitech PM5精密研磨拋光系統是帶有一個工作站的桌上型電腦▩✘◕✘,適用於科學研究水平的研磨和拋光▩✘◕✘,能夠完成4英寸及以下尺寸樣品的小批次處理•▩。

具有加工樣品*性高◕•▩◕↟、規格水平高◕•▩◕↟、表面光潔等特點•▩。

精密研磨拋光系統特點☁₪◕:

1◕•▩◕↟、完善的控制系統

在半導體◕•▩◕↟、光電◕•▩◕↟、光學以及地質應用領域▩✘◕✘,Logitech PM5是值得信賴的選擇▩✘◕✘,典型的應用包括☁₪◕:晶片背減◕•▩◕↟、光纖及波導器件製備◕•▩◕↟、鐳射棒拋光◕•▩◕↟、MEMS等•▩。無論是對何種高質量表面平整度控制的需求▩✘◕✘,PM5均能給予使用者滿意的處理效果•▩。

研磨/拋光的所有功能▩✘◕✘,包括盤轉速◕•▩◕↟、擺臂設定◕•▩◕↟、滴料速度▩✘◕✘,均顯示在操作控制顯示屏▩✘◕✘,透過操縱桿對操作控制顯示屏的引數進行設定•▩。

2◕•▩◕↟、自動化功能增強

機器執行內建計時器▩✘◕✘,在無人看管時可以設定計時器▩✘◕✘,計時器時間設定範圍0-10小時▩✘◕✘,在處理材料完成機器自動停止(拋光狀態下報警不停機)▩✘◕✘,控制系統向操作員發出蜂鳴提醒•▩。

為了進一步提高易用性▩✘◕✘,Logitech PM5部分配備真空管道▩✘◕✘,以聯通真空裝置▩✘◕✘,VS2真空系統單元獨立放置▩✘◕✘,在提供真空系統同時具有過濾防汙染的功能•▩。可以看到▩✘◕✘,Logitech的全套備件配置使用為使用者帶來了足夠大的加工靈活性•▩。

Logitech PM5夾具具有線上監測功能▩✘◕✘,可實時顯示樣品處理的去除量▩✘◕✘,監測精度1um;為適應各種大小尺寸的樣品處理▩✘◕✘,夾具對晶片作用壓力可以連續調節▩✘◕✘,透過增加夾具壓力塊▩✘◕✘,壓力調節範圍zui大可達0.1 - 7Kg;夾具zui大處理樣品尺寸4英寸•▩。

3◕•▩◕↟、直觀的操作控制系統

快速◕•▩◕↟、高效的研磨/拋光▩✘◕✘,便於拆卸▩✘◕✘,方便使用者在不同的研磨過程之間的快速轉換▩✘◕✘,以及研磨和拋光工藝的變換•▩。這種靈活性使PM5成為實驗室空間有限的情況下的首要選擇•▩。

Logitech PM5具有耐化學腐蝕的配置▩✘◕✘,適合在腐蝕性物質環境中使用▩✘◕✘,如砷化鎵拋光中常常使用Chemlox拋光液•▩。耐腐蝕的設計保障了系統在酸鹼工作環境中執行•▩。

4◕•▩◕↟、精的滴料系統

磨料自動填系統透過一個可調導料槽▩✘◕✘,確保精的控制料液流從料桶滴入研磨盤或拋光碟•▩。滴料的控制設計▩✘◕✘,具有很高的經濟性▩✘◕✘,特別適合多樣化研究使用•▩。

此外▩✘◕✘,可拆卸的料液托盤匯出廢料▩✘◕✘,使其流入廢料桶▩✘◕✘,從而保障裝置安全穩定的長時間持續執行▩✘◕✘,同時減輕裝置的清理工作•▩。

5◕•▩◕↟、完整的引數控制▩✘◕✘,確保結果*

研磨/拋光的工藝過程中▩✘◕✘,盤的表面情況會在一定程度上反饋在樣品表面▩✘◕✘,透過控制研磨盤的盤面型從而提高樣品平整度透過保持拋光碟的表面狀態從而提高樣品表面質量•▩。

為獲得*結果▩✘◕✘,裝置往復運動的速度和擺幅可以精確的控制樣品處理效果▩✘◕✘,從而提高了結果的高重複性和高*性•▩。

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