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Logitech CP3000化學拋光裝置

  • 型   號☁✘:
  • 價   格☁✘:

Logitech CP3000化學拋光裝置能很好的滿足腐蝕拋光溶劑☁✘╃◕✘,同樣也適用於腐蝕性較弱的Chemlox拋光☁✘╃◕✘,如半導體晶片的背拋光☁•。現在的電子器件對於晶片尺寸☁✘╃◕✘,表面平整度│↟•、平行度及厚度控制都有非常苛刻的控制要求☁✘╃◕✘,而CP3000化學拋光機☁✘╃◕✘,特別是跟Logitech的晶片處理系統配合使用作為Z後一個步驟時☁✘╃◕✘,能*達到這些控制標準☁•。

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Logitech CP3000化學拋光裝置

·  zui少次級表面損傷

·  抗腐材料製成

·  zui大樣品尺寸—直徑20cm (8")

·  方便☁✘╃◕✘,遠端面板控制

·  半導體晶片和光晶體的精細腐蝕拋光

介紹

·  精細的半導體晶片及其它電子│↟•、光電晶體的表面拋光都要求zui低的次級表面損傷☁✘╃◕✘,這就需要進行一道zui終      腐蝕拋光工藝☁•。這些工藝中使用的化學劑☁✘╃◕✘,如溴甲醇☁✘╃◕✘,過氧化氫或酸腐蝕劑等☁✘╃◕✘,都有很強的化學腐蝕作用☁✘╃◕✘,這就需要操作的裝置具有防腐蝕的功能並適合這些操作☁✘╃◕✘,而且安全☁•。Logitech CP3000化學拋光裝置能很好的滿足這些腐蝕拋光溶劑☁✘╃◕✘,同樣也適用於腐蝕性較弱的Chemlox拋光☁✘╃◕✘,如半導體晶片的背拋光☁•。現在的電子器件對於晶片尺寸☁✘╃◕✘,如表面平整度│↟•、平行度及厚度控制都有非常苛刻的控制要求☁✘╃◕✘,而CP3000化學拋光機☁✘╃◕✘,特別是跟Logitech的晶片處理系統配合使用作為zui後一個步驟時☁✘╃◕✘,能*達到這些控制標準☁•。

·  結構

     Logitech CP3000化學拋光裝置主要由聚丙烯☁✘╃◕✘,PVDF(聚偏氟乙稀)和其它抗腐蝕材料製成☁✘╃◕✘,它被設計可安放在一個通風框內使用☁✘╃◕✘, 這樣給操作者以zui大的方便和安全☁•。 甲板下的冷卻扇☁✘╃◕✘,有互鎖功能☁✘╃◕✘,與機器相結合以防止爆炸氣體或腐蝕氣體的聚集☁✘╃◕✘,並保持一個恆定的操作溫度☁•。為安全起見☁✘╃◕✘,一旦結構內某因素導致空氣流速減少大於50%☁✘╃◕✘,遠端切斷顯示燈亮☁✘╃◕✘,同時機械會自動切斷電源☁✘╃◕✘,拒絕再次啟動☁•。

·  配置

      配置☁✘: 機器由一個主驅動單元☁✘╃◕✘,大約410mm(16”)見方☁✘╃◕✘,一個防腐蝕的填料單元☁✘╃◕✘,一個廢料槽和一個遠端控制模組組成☁✘╃◕✘,按需要這個模組可以安放在通風框外☁•。拋光碟下有一個可移除的PVC拖盤☁✘╃◕✘,用以保護主機內部☁✘╃◕✘,並且容易清洗☁•。 標準型機器有一個齒輪驅動裝置☁✘╃◕✘,樣品在行星齒輪內繞著中心齒輪轉動☁•。偏心驅動版本的機型是同防Chemlox化學腐蝕的半月夾手臂一起使用☁✘╃◕✘,這個版本的機器可以帶動樣品進行左右擺臂☁•。同時還帶有一個自動填料裝置☁•。偏心版本也可以接受三個位置的往復擺臂☁•。

·  應用

1│↟•、zui典型的應用是以下材料等在封裝及外延生長前的末級化學腐蝕拋光☁✘:

2│↟•、用於紅外探測和其它器件的碲鋅鎘,銻化銦☁✘╃◕✘,碲鎘汞

3│↟•、薄的或超薄的半導體材料☁✘╃◕✘,如砷化鎵☁✘╃◕✘,磷化銦和多種Ⅲ-Ⅴ族,Ⅱ-Ⅵ族化合物(ASIC’s等)

4│↟•、硫化鎘及類似的光電材料
     Chemlox化學拋光也特別適合很多這些材料的背拋光☁•。CP3000能理想的用於所有需要電子/光學級拋光的高標準應用☁✘╃◕✘,提供了晶體zui小應力解決方法☁•。 

CP3000化學拋光裝置規格

·  電源: 220V/50Hz

·  重量☁✘:42公斤(帶拋光料桶☁✘╃◕✘,有齒輪板)

·  主單元☁✘:400x435x260mm

·  zui大高度☁✘╃◕✘,帶料桶☁✘:660mm

·  拋光碟直徑☁✘:356mm

·  zui大樣品尺寸☁✘:1個直徑200mm/(8")☁✘╃◕✘,或三個直徑114mm/(4.5")

·  拋光碟轉速☁✘:5-70轉/分鐘(連續可變)

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